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产物手艺
集成电路
iTomic? HiK系列原子层沉积系统
iTomic? HiK系列原子层沉积系统，适用于客户制程高介电常数（High- ? ）栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等薄膜工艺需求；ALD系列装备凭jie原子级此外准确控制、沉积薄膜的高笼罩率和超薄膜厚的匀称性可为逻辑芯片、存储芯片提供介质层等关jian工艺解决方案，手艺和装备指标到达海内一流、国际先进水平。
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产物特点
12英寸单片热ALD量产装备（兼容8英寸）
1
接纳原创设计的反映腔和源运送加热系统，可知足优异的薄膜匀称性和重复性，更适合三维和高深宽比器件结构的薄膜生长
2
薄膜质料：Al?O?、HfO?、HfSiO、SiO?、金属化等工艺
3
设置有4种自力的高温前驱体运送系统，知足ALD薄膜多元化掺杂工艺需求
4
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